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技術情報
蒲田工場(製剤)主要設備
蒲田工場(製剤)主要技術
静岡工場(合成)主要設備
静岡工場(合成)主要反応
技術情報
静岡工場主要反応
アシル化 酸クロライド,酸無水物などによる
アミド化 アンモニア,各種アミンなどによる
アミノ化 ニトロ,ニトロソの還元及び各種アミンによる
アルキル化 ジアルキル硫酸,アルキルハライドによる
エステル化 各種有機酸及び無機酸とアルコール類による
還元 接触水添,NaBH4,アルミニウムアルコキシド,亜硫酸などによる
クロル化 NaClO,SOCl2,PCl3,POCl3などによる
光学活性体合成 不斉還元,光学分割,酵素不斉加水分解
酸化 1) H2O2,NaClO,PbO2などによる  2) 高圧空気酸化
ジアゾ化 NaNO2による
シアノ化 −CONH2 → −CN
鈴木・宮浦カップリング  
スルホン化 硫酸,発煙硫酸による
ニトロ化 硝酸,混酸などによる
ニトロン化 NaNO2による
ブロム化 Br2による
ホルミル化 HCHO,Vilsmeier反応などによる
光延反応  
リン酸エステル化 POCl3などによる
Friedel - Crafts反応 アシル化,アルキル化
Grignard反応  
Kolbe - Schmitt反応 炭酸ガスによる
光反応 ナトリウムランプによる
その他各種有機合成反応  
酵素反応 不斉加水分解,加水分解
天然物抽出  
無機合成  
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